狹縫式涂布(bu)(bu)機(ji)的優勢(shi)與涂布(bu)(bu)過程(cheng)是怎樣(yang)的？今天涂布(bu)(bu)廠家跟大家說說：

狹縫式涂布(bu)機采(cai)用的是(shi)一種(zhong)高精(jing)密的預計量涂布(bu)方式，不僅(jin)用于機太陽能電(dian)池(chi)OPV和鈣(gai)鈦礦太陽能電池PVK等(deng)(deng)成卷基(ji)材(cai)的涂(tu)(tu)布(bu)，還(huan)可以(yi)用于(yu)實驗(yan)室研發(fa)聚酰亞胺漿料配方(fang)的涂(tu)(tu)布(bu)、OLED涂(tu)(tu)布(bu)、光學(xue)膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴散(san)膜等(deng)(deng))等(deng)(deng)涂(tu)(tu)布(bu)，也應用于(yu)非連(lian)續基(ji)材(cai)如LCD玻璃基(ji)板光阻涂(tu)(tu)布(bu)。

狹縫式(shi)涂(tu)(tu)布由涂(tu)(tu)布模頭相(xiang)對于基片(pian)作(zuo)精確運(yun)動，通過控制速率、精密計量和泵送工藝(yi) 流體(ti)，將液體(ti)化學材料(liao)從(cong)上下模之(zhi)間的(de)縫隙擠(ji)出涂布于移動(dong)的(de)基(ji)板（玻璃、不銹鋼和塑 料等）上形成薄膜(mo)。涂膜(mo)厚度可由液體流(liu)量(liang)與基板移動速度直(zhi)接計算，其優點為涂膜(mo)均 勻性高、可適(shi)用(yong)的涂(tu)(tu)料粘度(du)(du)范圍(wei)廣、涂(tu)(tu)布速(su)度(du)(du)快(kuai)、涂(tu)(tu)布系統封閉，在涂(tu)(tu)布過程中(zhong)能防止 污染物進(jin)入以及(ji)可制作(zuo)大面積的涂膜等。

狹縫式涂(tu)布(bu)機的優勢：

1. 涂布(bu)(bu)(bu)效果(guo)好，進口涂布(bu)(bu)(bu)刀(dao)頭，針對高一致性、 化學兼容(rong)性、低充填(tian)容(rong)量(liang)和條狀涂布(bu)(bu)(bu)設計(ji)。涂布(bu)(bu)(bu)平整均勻度可達±5%。

2. 操(cao)控精度(du)高(gao)，涂布(bu)(bu)速(su)率（穩(wen)態涂布(bu)(bu)）和(he)涂布(bu)(bu)輪(lun)廓（前后邊緣）的高(gao)精度(du)數字化控制，可實現膜厚500nm~50um。

3. 涂(tu)(tu)布面(mian)積(ji)大(da)，支持有效涂(tu)(tu)布寬度100mm~500mm。

4. 預計量工具(ju)，可(ke)前(qian)期計算工藝參數(shu)，減(jian)少(shao)溶液浪費。 材料利用率可(ke)達(da)95%

5. 能夠滿足不同階段需求(qiu)：從研發（實驗型(xing)）到中試型(xing)、量(liang)產型(xing)

6. 高度(du)可定制(zhi)，支持(chi)更大(da)涂(tu)布面積定制(zhi)、多(duo)種規格選配如風刀、真空(kong)吸附、加熱臺、雙(shuang)頭注液泵等(deng)，支持(chi)高粘度(du)材料。

狹縫式(shi)涂(tu)布(bu)機的涂(tu)布(bu)過程：

涂(tu)布(bu)間隙控(kong)制：高精(jing)度，動(dong)態控(kong)制涂(tu)布(bu)頭高度  

模具運動控制: 在涂布方(fang)向上精確控(kong)制模具的運動軌(gui)跡(包括加速和(he)減速參數(shu))

模具設計: 針對高一致性(xing)、化學(xue)兼容(rong)性(xing)、低充填容(rong)量  和 條狀涂布進行模具設計制造

涂布控制: 涂(tu)布(bu)速率(穩態(tai)涂(tu)布(bu)) 和涂(tu)布(bu)輪(lun)廓 (前后邊緣)的高精度數字化控(kong)制

控制(zhi)軟(ruan)件: 所(suo)有配方參(can)數，數據(ju)監(jian)控和反饋控制，數據(ju)采(cai)集分(fen)析。